마이크로디스플레이용 포토레지스트 소재 국산화 성공

Question

국내 연구진이 낮은 온도의 공정에서도 만들 수 있는 유기발광다이오드(OLED) 디스플레이용 포토레지스트를 개발하는 데 성공했다. 디스플레이나 반도체의 미세 회로를 만들 때 사용하는 포토레지스트는 2019년 일본과 무역 분쟁 당시 가장 논란이 됐던 소재다.

한국전자통신연구원(ETRI)은 100도 이하 공정온도에서도 픽셀(화소) 크기가 3마이크로미터 이하로 만들 수 있는 소재 기술을 개발하고 이를 국내 최초로 OLED 마이크로디스플레이에 적용하는 데 성공했다고 9일 밝혔다.

디스플레이는 빛을 받으면 화학적 특성이 달라지는 포토레지스트라는 소재로 얇은 막에 세밀한 픽셀을 형성해 만든다. 포토레지스트는 디스플레이를 만드는 데 꼭 필요하지만, 소재를 만들거나 이를 다루는 기술이 어려워 그간 수입에 의존했다.

2019년 일본의 수출 규제가 시작된 뒤, ETRI는 ‘ICT(정보통신기술) 소재·부품·장비 자립 및 도전기술 개발’ 과제와 ‘저온 경화 및 고해상도 컬러 포토레지스트 소재 개발’ 과제 등을 수행하며 이런 의존 문제를 해결하고자 했다.

저온 경화 포토레지스트는 공정 중 저온에서도 단단하게 굳어질 수 있는 포토레지스트다. OLED 디스플레이는 공정에 따라 OLED를 먼저 형성한 뒤 포토레지스트를 덧입히는 것과 포토레지스트를 이용한 공정 뒤에 OLED를 형성하는 것으로 나눌 수 있다. 이때 OLED를 먼저 만든 뒤 높은 온도에서 포토레지스트를 사용할 경우 앞서 만든 OLED가 고온에 의해 문제가 생길 수 있다. 이로 인해 낮은 온도에서도 포토 공정이 가능한 소재 기술을 개발하는 것이 관건이었다.

Toki2 · Accepted Answer

ETRI, 저온 경화 및 고해상도 컬로 포토레지스트 개발

마이크로디스플레이용 포토레지스트 소재 국산화 성공

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