ETRI, 저온서 작업 가능 디스플레이용 포토레지스트 기술 개발

2021-11-09 17:13:44  원문 2021-11-09 17:06  조회수 193

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(대전=연합뉴스) 한국전자통신연구원(ETRI)이 100도 이하 온도에서도 픽셀 크기가 3μm(마이크로미터, 100만분의 1m) 이하로 만들 수 있는 포토레지스트(Photoresist) 소재 기술을 개발하고, 이를 국내 최초로 OLED 마이크로디스플레이에 적용하는 데 성공했다고 9일 밝혔다.

사진은 개발된 컬러 포토레지스트 소재와 이를 기반으로 만든 OLED 디스플레이용 기판. 2021.11.9 [한국전자통신연구원 제공. 재판매 및 DB 금지]

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